Гомогенизация поверхности
Облучение материала интенсивным импульсным электронным пучком приводит к быстрому нагреву поверхности до температуры плавления и плавлению тонкого поверхностного слоя, при этом присутствующие в зоне нагрева включения частично испаряются, а частично растворяются в расплаве основного материала. Обработка материала большим количеством импульсов, таким образом, приводит к практически полной гомогенизации поверхностного слоя вследствие удаления включений вторых фаз.