В конце сентября в Национальном центре ядерных исследований Польши нашими специалистами был завершен ввод в эксплуатацию уникального многоцелевого оборудования, разработанного совместно с Институтом сильноточной электроники СО РАН.

История началась более полутора лет назад, когда национальным ядерным центром Польше был объявлен тендер на поставку комбинированного оборудования. Оказалось, что ни одна европейская компания не выпускает установок подобного класса. Для Польского ядерного центра впервые в мире была изготовлена установка, в который совмещены две уникальные возможности. Во-первых, это возможность имплантации материалов многозарядными ионами. Во-вторых, – возможность отжига дефектов, возникающих в этих материалах при имплантации, с помощью импульсного сильноточного электронного пучка типа РИТМ. Эта установка предназначена для модификации поверхности как полупроводниковых, так и металлических материалов, которые будут использоваться в области микроэлектроники и приборостроения, для придания им качественно новых свойств.

– Наш научный коллектив изучает влияние электронного пучка и импульсных плазменных пучков на модификацию поверхности материалов, – рассказывает Збигнев Вернер, профессор Национального центра ядерных исследований Польши. – Ранее у нас уже был успешный опыт сотрудничества с Институтом сильноточной электроники, который имеет высокий авторитет среди специалистов Европы и США. Ранее мы уже заказывали в институте источник плазменных дуговых разрядов, предназначенный для нанесения пленок на поверхность. Поставленный нам тогда ускоритель «Титан» активно применяется для исследований. Но у нас возникла потребность в новейшем, передовом оборудовании. Мы предполагали заказать два отдельно работающих устройства, но компания «Микросплав» совместно с ИСЭ СО РАН смогли разработать единый комплекс. Мы надеемся на продолжение сотрудничества и уже наметили для себя дальнейшие направления совместной работы.